中国国际科技促进会钙钛矿产业分会新入会员：德沪涂膜设备（苏州）有限公司

　　【自中国国际科技促进会钙钛矿产业分会发布关于发展科促会会员暨钙钛矿产业分会（CPPIA）成员的通知以来，已陆续收到众多企业的入会申请。即日起将陆续发布分会成员的相关介绍及行业成就。】

　　常务理事单位

　　德沪涂膜设备（苏州）有限公司

　　Suzhou Precision Systems, Inc.

　　德沪涂膜设备（苏州）有限公司于2022年9月在江苏省常熟市经开区成立，与2016年3月在上海嘉定工业园区成立的上海德沪涂膜设备有限公司，均为德沪系企业的核心成员。由海归博士和化学家王锦山先生创立。

　　· 世界领先的技术水平

　　德沪涂膜聚焦精密溶液成膜狭缝涂布+真空干烤等设备及其核心零部件的设计、开发和制造，大尺寸狭缝涂膜装备及整线技术水平世界领先，是我国在精密溶液成膜设备领域的龙头企业，过去数年进行的激烈商业竞标中，多次击败全球头部日、德企业。

　　· 创新的(3+N)*M商业模式

　　德沪提供研发、中试、量产系列精密溶液涂布/真空成膜设备及系统解决方案。商业模式为(3+N)*M，其中，3：德沪三件套（涂膜、干燥、烘烤）；N：强强联合的合作伙伴提供的其他仪器设备；M：德沪三赛道：新能源（钙钛矿等）、电子信息（平板显示等）、集成电路（先进封装等）等行业。

　　在德沪精选的三个赛道中，钙钛矿无疑是最有价值、最受关注的，属于新一代太阳能技术。具有成为主力电源形式的有利技术和商业基础条件，受到世界主要国家科学界和政府的重点关注、资本界的热捧。 2023年是钙钛矿产业化进程中的重要节点，也是德沪新三年计划中的起点。

　　· 扎根常熟，走向繁荣

　　德沪常熟新厂面积比此前上海厂址大了五倍，设有先进的设备研发和组装中心，旨在加速实现各本土产品系列的研发以及部分型号的彻底国产化进程。值得一提的是，新厂的设备研发和组装能力将使部分型号的研发和实验系列产品实现完全国产化，包括软件控制系统。2023年，新厂将陆续推出两个具有完全知识产权的新产品，进一步丰富国内市场。

　　常熟新厂还设有本地采购中心，将在未来数年内实现所有硬件的国内采购。这一战略举措将充分利用江浙强大的供应链和高素质人才库，从而提高效率，实现快速响应，并依靠高素质的队伍提供更优质的客户服务。新厂的启用将进一步提升德沪涂膜在市场中的竞争力，同时也标志着公司在本土化进程和自主创新方面迈出了坚实的一步。当地政府的大力支持和产业政策也是德沪信心的重要砝码。

　　德沪不仅提供设备，还提供研究院的平台式和生态链式，对行业发展起到公共支撑。这个平台对行业产业化尽快突破，能起到实质作用，是工艺加速器，产业放大器。在常熟，德沪将编织出完整的有竞争力的钙钛矿生态链和富集区。

　　· 高达80%以上的市占率

　　按照实际交付数，在第三代太阳能电池钙钛矿领域，目前钙钛矿功能层用大尺寸核心涂膜设备，德沪市占率达80%以上。是明确的头部企业。

　　发展历程

　　1. 上海德沪注册成立（2016）

　　2. 首台OLED用自动化中试双涂头涂膜设备交付；首台电致QD显示涂膜设备交付（2018）

　　3. 首条G3涂胶设备整机集成及控制系统交付；首台钙钛矿放大设备交付（2019）

　　4. 获科技部钙钛矿电池重大共性关键技术设备研发重大专项奖励（2020）

　　5. 全球第一条100MW钙钛矿中试线首台套核心涂膜设备(1m*2m)交付，4个月后通过终验收（2021）

　　6. 实现多条平米级钙钛矿量产设备交付并成功验收；获科技部叠层钙钛矿重大专项奖励；苏州德沪成立（2022）

　　7. 获高新技术企业及上海市“专精特新”企业称号；德沪钙钛矿产业研究院成立；pre-A融资成功（2023）

　　产品介绍

　　一、nRad/SRD研发系列

　　nRad/SRD系列为实验室用精密狭缝涂布设备。占地面积小，成本低，专门设计应用于产业化前期的研发。其中SRD系列除尺寸不同外，其机械和电气设计与量产设备相似。

　　nRad/SRD200

技术规格参数	标准值
基片尺寸	标准150*150mm，最大尺寸210x300mm，150或200mm晶圆
基片类型	玻璃、塑料、金属箔、硅晶圆刚性或柔性基板
基片厚度	刚性：0.5~6mm，柔性：＞100μm
涂布厚度范围	20nm~大于50μm（干膜，取决于材料属性与系统参数设置）
涂布一致性/均匀性*	对于大于150nm的膜厚（干膜），±3%或更优；对于50~150nm的膜厚（干膜），±5%或更优
涂布开始/结束边缘影响宽度*	5~10mm或更小
涂布材料粘度范围	标准1~50cP，使用高粘度泵则可达10000cP
系统填充量*	低于20ml以下
系统尺寸及重量	长x宽x高：911mmx780mmx878mm 重量：170kg/380lbs
认证	UL&CE

　　nRad2/SRD300

技术规格参数	标准值
基片尺寸	标准300x300mm，最大尺寸370x470mm 晶圆尺寸可达300mm
基片类型	玻璃、塑料、金属箔、硅晶圆刚性或柔性基板
基片厚度	刚性：0.5~6mm，柔性：＞100μm
涂布厚度范围	20nm~大于50μm（干膜，取决于材料属性与系统参数设置）
涂布一致性/均匀性*	对于大于150nm的膜厚（干膜），±3%或更优；对于50~150nm的膜厚（干膜），±5%或更优
涂布开始/结束边缘影响宽度*	5~10mm或更小
涂布材料粘度范围	标准1~50cP，典型地使用高粘度泵则可达10000cP
系统填充量*	低于30ml以下
系统尺寸及重量	长x宽x高：1307mmx941mmx921mm 重量大约：370kg/800lbs
认证	UL&CE

　　二、nSpire/SPL放大/中试系列

　　nSpire/SPL系列涂布机主要用满足中试要求，在正式量产之前的中等规模生产线,兼具改进观察的试验作用，用于LCD、光伏、OLED、柔性显示及各种有机印刷电子产品的中试与小批量生产中，能提供涂膜均匀性好，材料消耗少，精度高且稳定性强的狭缝涂布系统。

　　nSpire/SPL系列亦可配置自动化机器人，及基片装卸加工的在线传送机构。

技术规格参数	标准值
基片类型	显示及浮法平板玻璃，合成树脂（刚性和柔性面板），金属（刚性及柔性）等
基片尺寸	典型370x470，最大尺寸为450x650mm
基片厚度	玻璃：0.5~4.0mm，塑料：下至150μm，金属箔：下至50μm
基片加载与卸载	手动或全自动化操作
涂层厚度范围	20nm~大于50μm（干膜，取决于材料属性与系统参数设置）
膜厚一致性	对于大于150nm的膜厚（干膜），±3%或更优；对于50-150nm的膜厚（干膜），±5%或更优
涂布开始/结束边缘影响宽度*	5~10mm或更小
涂布材料粘度范围	标准1~50cP，典型地使用高粘度泵则可达10000cP
材料利用率	大于95%
制程周期（TACT）	典型为60秒，取决于基片尺寸及自动化程度

　　三、nDeavor/SPR量产系列

　　nDeavor /SPR系列高性能涂布机主要用于显示及浮法平板玻璃等电子产品的大批量生产中，SPS能提供涂膜均匀性好，材料消耗少，精度高且稳定性强的狭缝涂布系这种系统可适用于Gen2(370x470mm) 至 Gen10(2880x3130mm) 规格基片的加工，且可用于更大尺寸基片或者客户定制基片尺寸。

　　nDeavor/SPR系统可配置自动化机器人，及基片装卸加工的在线传送机构。

技术规格参数	标准值
基片类型	显示及浮法平板玻璃等
基片尺寸	G2~G10玻璃
基片厚度	玻璃：0.5~3.2mm
基片加载与卸载	手动或全自动化操作
涂层厚度范围	20nm~大于50μm（干膜，取决于材料属性与系统参数设置）
膜厚一致性	对于大于150nm的膜厚（干膜），±3%或更优；对于50~150nm的膜厚（干膜），±5%或更优；
涂布开始/结束边缘影响宽度*	5~10mm或更小
涂布材料粘度范围	标准1~50cP，典型地使用高粘度泵则可达10000cP
材料利用率	大于95%
制程周期（TACT）	典型为60秒，取决于基片尺寸及自动化程度

　　四、晶圆涂膜及晶硅-钙钛矿叠层涂布设备

　　晶圆狭缝涂布设备

　　晶硅叠层涂布设备

　　五、特殊应用涂布机

　　双涂头涂布

　　选择性/格式化涂布

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