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十四五规划加持!光刻胶领衔科技大反攻!广信材料是新龙头?光刻胶名单曝光!
0人浏览 2020-09-17 15:03

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催化因素:我国计划把大力支持发展第三代半导体产业,写入正在制定中的“十四五”规划,计划在2021-2025年期间,在教育、科研、开发、融资、应用等等各个方面,大力支持发展第三代半导体产业,以期实现产业独立自主。下一个五年的经济战略包括向无线网络到人工智能等技术领域投入约1.4万亿美元。另外美国断供华为,中芯国际也不能为华为代工,芯片制造国产化迫在眉睫,半导体材料和设备是比较重要的投资领域,光刻胶和光刻机更是重中之重。

光刻胶是半导体制程技术进步的“ 燃料”在集成电路制造领域,如果说光刻机 是推动制程技术进步的“ 引擎” ,光刻胶就是这部“ 引擎” 的“ 燃料”。

【光刻胶是光电信息行业图形化方案核心材料】

光刻胶又称光致抗蚀剂,是光刻工艺的关键化学品,主要利用光化学反应将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,下游主要用于集成电路、面板和分立器件的微细加工,同时在 LED、光伏、磁头及精密传感器等制作过程中也有广泛应用,是微细加工技术的关键性材料。光刻胶的主要成分为树脂、单体、光引发剂及添加助剂四类。其中,树脂约占 50%,单体约占 35%。

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光刻胶是集成电路制造的重要材料:光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关 键因素。光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的 35%,并且耗费 时间约占整个芯片工艺的 40%-50%。光刻胶材料约占 IC制造材料总 成本的 4%,市场巨大。因此光刻胶是半导体集成电路制造的核心材料。

【光刻胶的分类】

光刻胶经过几十年不断的发展和进步,应用领域不断扩大,衍生出非常多的种类,按照应用领域,光刻胶可以划分为以下主要类型和品种。

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在平板显示行业:主要使用的光刻胶有彩色及黑色光刻胶、LCD 触摸屏用光刻胶、TFT-LCD 正性光刻胶等。在光刻和蚀刻生产环节中,光刻胶涂覆于晶体薄膜表面,经曝光、显影和蚀刻等工序将光罩(掩膜版)上的图形转移到薄膜上,形成与掩膜版对应的几何图形。

在PCB行业主要使用的光刻胶有干膜光刻胶、湿膜光刻胶、感光阻焊油墨等。干膜是用特殊的薄膜贴在处理后的敷铜板上,进行曝光显影;湿膜和光成像阻焊油墨则是涂布在敷铜板上,待其干燥后进行曝光显影。干膜与湿膜各有优势,总体来说湿膜光刻胶分辨率高于干膜,价格更低廉,正在对干膜光刻胶的部分市场进行替代。

在半导体集成电路制造行业:主要使用 g 线光刻胶、i 线光刻胶、KrF 光刻胶、ArF 光刻胶等。在大规模集成电路的制造过程中,一般要对硅片进行超过十次光刻。在每次的光刻和刻蚀工艺中,光刻胶都要通过预烘、涂胶、前烘、对准、曝光、后烘、显影和蚀刻等环节,将光罩(掩膜版)上的图形转移到硅片上。

【行业需求不断增长,国内增速显著高于海外】

伴随着全球半导体、液晶面板以及消费电子等产业向国内转移,国内对光刻胶需求量迅速增量。2011-2017 年,国内光刻胶需求复合增速达 14.69%,至 2017 年底已达7.99 万吨;国内光刻胶市场规模复合增速达 11.59%,至 2017 年底已达 58.7 亿元。从产量来看,2017 年我国光刻胶产量达到 7.56 万吨,2011-2017 年复合增速 15.83%;本土光刻胶产量达到 4.41 万吨,2011-2017 年复合增速 11.87%。国内目前光刻胶主要集中在 PCB 领域,高技术壁垒的 LCD 和半导体光刻胶主要依赖进口。

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【国外企业供应为主,国内进口替代空间大】

光刻胶行业具有极高的行业壁垒,因此在全球范围其行业都呈现寡头垄断的局面。光刻胶行业长年被日本和美国专业公司垄断。目前前五大厂商就占据了全球光刻胶市场 87%的份额,行业集中度高。其中,日本信越与富士电子材料市占率加和达到 72%。并且高分辨率的 KrF 和 ArF 半导体光刻胶核心技术亦基本被日本和美国企业所垄断,产品绝大多数出自日本和美国公司,如杜邦、JSR 株式会社、信越化学、东京应化工业Fujifilm,以及韩国东进等企业。整个光刻胶市场格局来看,日本是光刻胶行业的巨头聚集地。

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【半导体光刻胶持续增长,国产厂商持续发力】

伴随着全球半导体行业的快速发展,全球半导体光刻胶市场持续增长。据SEMI,2018年全球半导体光刻胶市场规模20.29亿美元,同比增长15.83%。其中,中国、美洲、亚太、欧洲、日本分别占比32%、21%、20%、9%、9%。分产品来看,ArF/液浸ArF对应先进IC制程,市场份额占比最高,达到41%,未来随着多重曝光技术的使用,ArF光刻胶市场需求持续扩大。

LCD光刻胶中国需求迎来快速增长。随着全球面板产能陆续向中国大陆转移,国内LCD光刻胶需求快速增长。据CINNOResearch,2022年大陆TFTArray正性光刻胶需求量将达到1.8万吨,彩色光刻胶需求量为1.9万吨,黑色光刻胶需求量为4100吨,光刻胶总产值预计高达15.6亿美金,国内厂商产能开始爬坡!

【光刻胶相关个股名单】

1/雅克科技:新材料发展平台已然成型。公司作为国内半导体新材料龙头企业,覆盖晶圆制造、面板制造等多个电子制造业领域,具体产品包括半导体前驱体材料、半导体浅沟槽隔离绝缘材料、电子特种气体、球形硅微粉等电子材料以及半导体和面板用液体化学品输送设备等耗材领域。此次收购LG光刻胶业务,公司将进一步完善在电子材料业务的布局,并与原有业务协同发展,打造新材料平台。

2/晶瑞股份:i线半导体光刻胶龙头,未来重点发力 248nm 。公司子公司苏州瑞红在光刻胶领域深耕多年,率先实现了 I 线光刻胶的量产,可以实现 0.35μm 的分辨率。公司未来重点发展248nm,将着力发展相关业务。

3/飞凯材料:积极推进TFT光刻胶。公司持续推进TFT光刻胶项目,截至2019年半年报已经累计投入5407万元,工程进度达93.22%。公司积极进行外部合作,显著加快TFT-LCD行业光刻胶产品的市场开拓工作,尽快形成公司于TFT-LCD行业新的利润增长极。

4/光华科技:公司将结合 PCB 电子化工材料的开发经验,通过引进团队和自主开发,重点布局超净高纯试剂、光刻胶、IC封装材料等关键产品的研究。

5/江化微:公司主营业务为超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等湿电子化学品的研发、生产和销售。

6/强力新材:2018年公司主营业务产品仍以光刻胶专用化学品为主,分为光刻胶用光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂等)和光刻胶树脂两大系列。

7/容大感光:公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品,主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。

8/南大光电:2019年半年报披露:为提升公司后续的发展能力,公司加大了对 193nm 光刻胶和前驱体的研发投入力度,公司研发费用投入比去年同期增加一倍。 公司正在自主创新和产业化的 193nm 光刻胶项目,已获得国家 02 专项“ 193nm 光刻胶及配套材料关键技术研究项目”和“ ArF 光刻胶开发和产业化项目”的正式立项,先后共

9/上海新阳:公司为拓展业务范围及产品应用领域,投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。

10/高盟新材:2019年11月8日公司在互动平台称:公司参股的科华微电子是国内拥有并正常使用荷兰ASML光刻机的光刻胶公司。

11/广信材料:公司在互动平台回复称公司光刻胶项目研发正在进行中,已经有部分研发成果;

12/怡达股份:2019年7月17日互动平台回复称公司不生产销售氟聚酰亚胺、光刻胶、高纯度氟化氢产品。公司产品可用于光刻胶领域。

13/捷捷微电:2019年7月26日互动平台回复公司拥有“高粘度光刻胶无胶丝匀胶装置”专利,以及子公司捷捷半导体拥有“一套光刻胶残胶收集装置”。

14/芯源微:产品包括光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机)。

前期是容大感光强势,这次是广信材料强势,个股到底有没有持续性,我们又该如何在光刻胶和半导体材料领域选股,点击加入擒龙宗师主升浪训练营,更多精彩等你一起分享!

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