国林科技
300786
0
0.00%
成交量：0（手）
成交额：0（万元）
流通市值：0（亿）
换手率：0.00%
行情图
-
请问2月10日的股东人数多少，谢谢尊敬的投资者，您好。截至2026年2月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计20,942人。感谢您的关注。
-
您好，截止到2月10日收盘公司的股东人数是多少？谢谢！尊敬的投资者，您好。截至2026年2月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计20,942人。感谢您的关注。
-
董秘你好，请问截止2月10日股东人数是多少？尊敬的投资者，您好。截至2026年2月10日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计20,942人。感谢您的关注。
-
截止到2.10日股东数？尊敬的投资者，您好。最近一期股东名册为2026年1月30日，截至2026年1月30日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计20,647人。感谢您的关注。
-
截止到1.31日的股东数？尊敬的投资者，您好。截至2026年1月30日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计20,647人。感谢您的关注。
-
公司生产的乙醛酸是螯合有机微肥的原料吗？尊敬的投资者，您好。公司所生产的乙醛酸产品不含乙二醛、氯离子等有害物质，产品纯度高、杂质含量低，目前主要应用于化妆品、香兰素、医药、螯合肥等多个领域。感谢您的关注。
-
请问1月30日的股东人数多少，谢谢尊敬的投资者，您好。截至2026年1月30日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计20,647人。感谢您的关注。
-
黄金冶炼厂产生的氰化贫液主要有脱金后液(贫液)、真空过滤液和脱浆吸附尾液。氰化贫液处理最佳方案是返回利用。经研究表明，经臭氧处理后的废水溶液中溶解氧增多，可返回氰化系统循环利用，有利于金的溶解，提高金浸出效率。请问公司的臭氧系统是否已经用在黄金浮选及提取环节的废液处理，帮助黄金企业实现废液中的金提取再回收？尊敬的投资者，您好。公司VPSA制氧系统及大型臭氧系统设备可用于采矿行业及选矿废水处理。感谢您的关注。
-
公司有存储芯片制造设备的业绩吗？目前公司存储芯片领域的业务收入情况在半导体设备整体业务的占比情况如何？是否比逻辑芯片更高？尊敬的投资者，您好。子公司国林半导体的下游终端客户包含存储芯片制造商，目前该部分业务占主营业务收入比重较低，具体经营情况请关注公司定期报告。公司将持续聚焦核心业务，积极拓展市场，提高收入规模，努力实现企业价值最大化，以回报投资者。感谢您的关注。
-
请问公司目前国林新材料的产能利用率有多少？前期公告称已开始向欧洲供货，但仅百余吨，请问欧洲市场前景如何？之前我提问这个问题一直没有回答尊敬的投资者，您好。公司乙醛酸项目近期产能利用率维持在80%左右，产能将根据市场需求及订单情况进行实时调整；目前公司正在加大国内外市场的开拓力度。感谢您的关注。
-
公司的半导体臭氧设备在存储芯片制造上的技术优势有哪些？能够适配目前最先进hbm、3d nand、dram存储芯片的生产吗？尊敬的投资者，您好。公司的半导体专用臭氧系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧，臭氧在电子工业领域被广泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生长等工艺环节。在3D NAND存储芯片结构中，臭氧因其高氧化性、清洁效率和环保特性，能够满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求，从而实现纳米级均匀氧化层的形成。感谢您的关注。
-
2026年，公司在半导体领域的订单情况相较于2025年有进一步提升吗？尊敬的投资者，您好。具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。
-
截止到1.20日的股东人数？尊敬的投资者，您好。截至2026年1月20日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计22,236人。感谢您的关注。
-
请问1月20日的股东人数多少，谢谢尊敬的投资者，您好。截至2026年1月20日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计22,236人。感谢您的关注。
-
公司目前半导体清洗设备前景怎么样？目前在手订单如何？是否会受益于现在半导体的发展？尊敬的投资者，您好。公司通过不断探索臭氧技术在半导体行业的应用，已经研发出专用的“臭氧产生、溶解、检测分解”相关全系列核心部件与臭氧装备，能够为半导体、光伏、面板等行业提供超纯高浓度臭氧气体设备及机能水设备。未来，公司将继续紧跟行业需求，以客户需求为导向，提供臭氧应用系统解决方案，为半导体设备国产化发展做出贡献。公司具体经营情况请关注定期报告。感谢您的关注。
-
公司臭氧设备在半导体洁净室、生产车间及产线半导体设备上的洁净消毒上的作用是什么？尊敬的投资者，您好。臭氧水具有高氧化性，同时兼具清洁效率和环保特性，能够满足各类场合中臭氧杀菌消毒的需求。感谢您的关注。
-
您好，国家大力发展芯片半导体国产替代，很多芯片类型公司陆续上市，扩产，涨价，设备需求大增，请问子公司的国林半导体产品能满足芯片半导体制造的哪些环节？谢谢尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。感谢您的关注。
-
公司的半导体臭氧设备产生的臭氧能否在3D NAND存储芯片结构中形成纳米级均匀氧化层？尊敬的投资者，您好。公司的半导体专用臭氧系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧，臭氧在电子工业领域被广泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生长等工艺环节。在3D NAND存储芯片结构中，臭氧因其高氧化性、清洁效率和环保特性，能够满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求，从而实现纳米级均匀氧化层的形成。感谢您的关注。
-
请问1月9日的股东人数多少，谢谢尊敬的投资者，您好。截至2026年1月9日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计23,760人。感谢您的关注。
-
公司开始有人形机器人领域的技术应用吗尊敬的投资者，您好。公司业务暂未涉及该领域，公司将积极关注行业动态。感谢您的关注。