国林科技
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公司在存储芯片专用设备上的技术处于国内什么水准？对比国外优势巨头，差距有多少？尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。
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公司在光刻胶清洗领域，是否对日本先进半导体设备（例如日本住友）形成国产替代？尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。
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公司能对日本在半导体优势领域的半导体设备形成国产替代吗？尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程，目前被广泛应用于电子工业中。子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。
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公司的半导体臭氧水设备和机能水设备是否已经通过验证？正式进入批量供货阶段。尊敬的投资者，您好。目前，国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭氧水以及其他配套功能水设备现有客户已经全部验证通过，已全部量产持续出货中；薄膜沉积工艺用臭氧气体发生器验证取得了重要突破，目前已小批量出货中。感谢您的关注。
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目前公司在存储芯片专用薄膜沉积与清洗设备上取得了哪些进展？尊敬的投资者，您好。国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭氧水以及其他配套功能水设备目前对接客户已经全部验证通过，已全部量产持续出货中；薄膜沉积工艺用臭氧气体发生器验证取得了重要突破，目前已小批量出货中。感谢您的关注。
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公司参与了商业航天火箭推进剂废水处理吗？有何技术亮点？目前国内商业航天客户对公司的推进剂废水处理技术需求情况如何？尊敬的投资者，您好。公司产品有火箭推进剂废水处理应用业绩，但其占公司主营业务收入比重较低，具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。
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乙醛酸，市场价格如何，公司毛利率多少尊敬的投资者，您好。乙醛酸价格随市场供需变化、原材料采购成本、客户订单量等情况产生波动；根据公司2025年半年度报告披露，公司乙醛酸及其副产品毛利率-0.98%，公司将继续努力拓宽化工领域产品销售市场，提升产品市场竞争力。感谢您的关注。
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公司臭氧产品技术是否参有助力中国航天事业发展？为中国航天事业做了哪些贡献？尊敬的投资者，您好。公司产品有火箭推进剂废水处理应用业绩，但其占公司主营业务收入比重较低，具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。
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乙醛酸利用率到多少了？尊敬的投资者，您好。公司乙醛酸项目近期产能利用率维持在80%左右，产能将根据市场需求及订单情况进行实时调整。感谢您的关注。
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公司薄膜沉积与清洗设备已经正式小批量投入到了存储芯片的制造过程中了吗？尊敬的投资者，您好。目前，国林半导体公司通过自主研发技术取得了阶段性成果:半导体湿法清洗工艺用臭氧水以及其他配套功能水设备现有客户已经全部验证通过，已全部量产持续出货中；薄膜沉积工艺用臭氧气体发生器验证取得了重要突破，目前已小批量出货中。感谢您的关注。
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这2天网上又在传公司与万象矿业的案件已经宣判，公司输了，要赔偿巨额金额，给公司带来巨大利空。请问公司能否给出一个准确回应？尊敬的投资者，您好。公司与老挝万象矿业的诉讼事宜目前尚未开庭审理，如有实质性进展，公司将严格按照证监会及深交所的要求及时履行信息披露义务，请以公司法定信息披露媒体发布信息为准。感谢您的关注。
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公司目前半导体收入里面，来自存储芯片设备的收入占比如何？尊敬的投资者，您好。公司经营情况请关注公司在指定媒体上披露的定期报告。感谢您的关注。
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请问公司截至11月30日的股东人数是多少，谢谢尊敬的投资者，您好。截至2025年11月28日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计24,322人。感谢您的关注。
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公司11.30日股东数是多少？尊敬的投资者，您好。截至2025年11月28日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计24,322人。感谢您的关注。
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您好，请问截至11月底公司的股东人数是多少？谢谢！尊敬的投资者，您好。截至2025年11月28日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计24,322人。感谢您的关注。
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公司目前已呈现出来的半导体设备系列矩阵在5nm以下芯片先进制程领域的优势体现在哪？尊敬的投资者，您好。基于国林科技集团在臭氧机理研究的技术优势和技术沉淀，子公司国林半导体所开发出半导体行业专用的高浓度、高纯度、高可靠性的臭氧发生器和各品类机能水设备，可以为半导体、面板显示以及光伏等行业提供臭氧设备。公司主要产品及应用领域请参考公司官网及定期报告。感谢您的关注。
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公司在半导体臭氧设备领域里的竞争对手天津奥尔斯曼宣称其半导体臭氧设备为存储芯片定制化生产，因存储芯片3D NAND堆叠层数从128层升级至232层，要求氧化工艺稳定性提升，需要部署臭氧浓度波动率尊敬的投资者，您好。国林半导体所研制臭氧发生器以及各类功能水设备可以满足应用在存储芯片领域，且浓度稳定性高于上述指标，具体产品介绍请关注公司官网及定期报告。感谢您的关注。
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公司2023年2月9日互动易回复：公司目前研制的光伏用高浓度臭氧水机主要用于生产HJT异质结类型电池板，主要在制绒，清洗和薄膜沉积工序应用。这是公司以前的回复风格，直接诚恳。请公司按照一致性原则，就公司目前研制的存储芯片用臭氧设备的具体技术工艺和使用场景进行介绍。谢谢！尊敬的投资者，您好。国林半导体所研制臭氧发生器以及各类功能水设备可应用于存储芯片制造工艺中的清洗与薄膜沉积环节。感谢您的关注。
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公司子公司国林新材料目前产能利用率？尊敬的投资者，您好。公司乙醛酸项目近期产能利用率维持在80%左右，产能将根据市场需求及订单情况进行实时调整。感谢您的关注。
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公司11.20日股东数？尊敬的投资者，您好。截至2025年11月20日，公司股东人数（合并普通账户和融资融券信用账户）共计25,543人。感谢您的关注。